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平面矩形铌靶材
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平面矩形铌靶材

规格:铌靶:685.8*127*6mm ,纯度为99.2% ,铜背板706.12*147.32*8MM 介绍:本款靶材由高纯金属铌制成,纯度99.95%,绑定在铜背板上,常用于指纹膜层,光学镜头及镜头盖板,手机盖板玻璃及背板,以及各种装饰镀膜及硬化膜

规格:铌靶:685.8*127*6mm ,纯度为99.2% ,铜背板706.12*147.32*8MM 

介绍:本款靶材由高纯金属铌制成,纯度99.95%,绑定在铜背板上,常用于指纹膜层,光学镜头及镜头盖板,手机盖板玻璃及背板,以及各种装饰镀膜及硬化膜。上述规格为日本shincron公司RAS镀膜机用靶材,其他尺寸按客户图纸定制。