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一家专业从事真空磁控溅射靶材生产与销售的企业

2021年 11月 - 11日

高纯溅射靶材

超大规模集成电路制造过程中要反复用到的溅射(Sputtering)工艺属于物理气相沉积(PVD)技术的一种,是制备电子薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在高真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。
2021年 11月 - 11日

溅射靶材的养护，这几点不可忽视

溅射靶材的养护不可忽视，因为靶材的清洁度对于溅射镀膜过程中形成的镀膜质量，以及产品质量合格与否有着至关重要的作用，清除那些在靶材上的残留物，可减少靶材表面结瘤，也能提高靶材利用率和生产效率，而且靶材清洁也与后期的养护密不可分。
2020年 08月 - 07日

靶材质量对大面积镀膜生产的影响

公司可为平面显示工业，光数据存储工业（光盘工业），半导体行业提供专业、及时的满意服务。我公司可根据客户要求研发出满意客户要求的各种靶材，以及提供靶材表面金属化、邦定和背板服务。我们愿意与业界同仁共同打造光电世界美好的未来！
2020年 08月 - 07日

磁控溅射靶材

溅射镀膜是用荷能粒子轰击固体靶材，使靶材原子溅射出来并沉积到基体表面形成薄膜的镀膜技术。1852 年 Grove 在实验室发现了阴极溅射现象，被公认为是真空溅射镀膜的开始。

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溅射靶材的养护，这几点不可忽视

靶材质量对大面积镀膜生产的影响

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